然後劉海就來到了烽火科技公司。

“謝謝老闆。”倪南看到劉海先道謝，劉海來的是辦公的地方，實驗室在另外的地方，當然劉海是從地下停車場上來的。

“算起來是我賺了，畢竟你們都在給我工作。”劉海呵呵一笑。

“老闆，龍芯三代晶片測試順利進行。”

“很不錯。”劉海點點頭。

“光刻機掩模方向研究怎麼樣？”劉海問的光刻機掩模技術，是在光刻機發展里程碑上重要的技術這項技術歷史上1990年被荷蘭的阿斯麥運用。

光刻機掩膜版上承載有設計圖形，光線透過它，把設計圖形透射在光刻膠上。

在投影式光刻機中，掩膜版作為一個光學元件位於會聚透鏡與投影透鏡之間，並不和晶圓有直接接觸。

掩膜上的圖形縮小4~10倍後透射在晶圓表面。這個過程類似於傳統照相機的底片功能，透過曝光工藝將圖形從掩膜版轉移到基底上。

“正在組織人力物力進行對這項技術進行公關，因為其中涉及到的東西比較多。”倪南聽到劉海問這技術就開口回答。

“光刻機的折射率問題，我覺得可以透過液體解決，比如水，這也是一個研究方向。”劉海說的光刻機折射率的問題也正是在後面，荷蘭阿斯麥戰勝小本子的關鍵技術。

在90年代中期光刻機的巨頭並不是阿斯麥，而是尼康與佳能，就因為阿斯麥先一步解決了鐳射折射率的問題，也就提前了半年時間。

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